【摘要】以传统的浸渍法，在不同焙烧温度下制备了用于CO氧化反应的Co3O4／SiO2催化剂．通过激光拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）、程序升温还原（TPR）和X射线吸收精细结构谱（XAFS）表征了该系列催化剂的结构．存所有的催化剂中，XRD和Raman光谱都只检测到了Co3O4晶相的存在．与Co3O4体相相比，XPS结果表明在200℃焙烧的（Co3O4（200）／SiO2）催化剂中Co3O4表面上存在着过量的Co^2＋．与XPS的结果一致，TPR结果表明Co3O4（200）／SiO2催化剂中Co3O4表面上存在氧缺陷，并且XAFS结果也表明Co3O4（2
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