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电流对电化学插层制备高氯酸石墨层间化合物的影响

【摘要】利用电化学方法制备高氯酸石墨层间化合物(HClO4—GIC),记录了不同电流下石墨的电位随时间的变化曲线(简称电位曲线)和电位曲线上两特征点的X射线衍射和拉曼谱图。对电位曲线随电流的变化的分析表明:电流增加时,电位曲线形状不变,出现台阶时状态的电位基本上不变,但出现台阶时状态的x值增加。X射线衍射和拉曼散射的研究结果表明:当电流较小时,样品表面和内部的阶次一致,而电流较大时,表面和体内的阶次状态有差别。上述结果表明电流较大将引起插层的不均匀。

【关键词】

20878 0页 化学物理学报 1992年2期 免费 刘道志1,2 蓝国祥1 王华馥1

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